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一(yī)文看懂金屬表面改性技術

知(zhī)其然還知(zhī)其所以然,一(yī)起來看看金屬改性相關知(zhī)識,十分(fēn)系統!電(diàn)鍍1電(diàn)鍍的定義及原理電(diàn)鍍是一(yī)種利用電(diàn)化學性質,在鍍件表面上沉積所需形态的金屬覆層的表面處理工(gōng)藝。電(diàn)鍍原理:在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中(zhōng),以被鍍基體(tǐ)金屬爲陰極,通過電(diàn)解作用,使鍍液中(zhōng)欲鍍金屬的陽離(lí)子在基體(tǐ)金屬表面沉積,形成鍍層。如圖13所示。圖13電(diàn)鍍原理圖電(diàn)鍍的目的:獲得不同于基體(tǐ)材料,且具有特殊性能的表面層,提高表面的耐腐蝕性及耐磨性。鍍層厚度

知(zhī)其然還知(zhī)其所以然,一(yī)起來看看金屬改性相關知(zhī)識,十分(fēn)系統!

電(diàn)鍍

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電(diàn)鍍的定義及原理

電(diàn)鍍是一(yī)種利用電(diàn)化學性質,在鍍件表面上沉積所需形态的金屬覆層的表面處理工(gōng)藝。

電(diàn)鍍原理:在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中(zhōng),以被鍍基體(tǐ)金屬爲陰極,通過電(diàn)解作用,使鍍液中(zhōng)欲鍍金屬的陽離(lí)子在基體(tǐ)金屬表面沉積,形成鍍層。如圖13所示。

圖13 電(diàn)鍍原理圖

電(diàn)鍍的目的:獲得不同于基體(tǐ)材料,且具有特殊性能的表面層,提高表面的耐腐蝕性及耐磨性。

鍍層厚度一(yī)般爲幾微米到幾十微米。

電(diàn)鍍的特點:電(diàn)鍍工(gōng)藝設備較簡單,操作條件易于控制,鍍層材料廣泛,成本較低,因而在工(gōng)業中(zhōng)廣泛應用,是材料表面處理的重要方法。

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鍍層的分(fēn)類

鍍層種類很多,按使用性能分(fēn)類如下(xià):

(1)防護性鍍層:例如鋅、鋅-鎳、鎳、镉、錫等鍍層,作爲耐大(dà)氣及各種腐蝕環境的防腐蝕鍍層。

(2)防護-裝飾性鍍層:例如Cu-Ni-Cr鍍層等,既有裝飾性,亦有防護性。

(3)裝飾性鍍層:例如Au及Cu-Zn仿金鍍層、黑鉻、黑鎳鍍層等。

(4)耐磨和減磨鍍層:例如硬鉻鍍層、松孔鍍層、Ni-Sic鍍層,Ni-石墨鍍層、Ni-PTFE複合鍍層等。

(5)電(diàn)性能鍍層:例如Au鍍層、Ag鍍層等,既有高的導電(diàn)率,又(yòu)可防氧化,可避免增加接觸電(diàn)阻。

(6)磁性能鍍層:例如軟磁性能鍍層有Ni-Fe鍍層、Fe-Co鍍層;硬磁性能有Co-P鍍層、Co-Ni鍍層、Co-Ni-P鍍層等。

(7)可焊性鍍層:例如Sn-Pb鍍層、Cu鍍層、Sn鍍層、Ag鍍層等。可改善可焊性,在電(diàn)子工(gōng)業中(zhōng)應用廣泛。

(8)耐熱鍍層:例如Ni-W鍍層、Ni鍍層、Cr鍍層等,熔點高,耐高溫。

(9)修複用鍍層:一(yī)些造價較高的易磨損件,或加工(gōng)超差件,采用電(diàn)鍍修複尺寸,可節約成本,延長使用壽命。例如可電(diàn)鍍Ni、Cr、Fe層進行修複。

若按鍍層與基體(tǐ)金屬之間的電(diàn)化學性質可将其分(fēn)爲:陽極性鍍層和陰極性鍍層。當鍍層相對于基體(tǐ)金屬的電(diàn)位爲負時,鍍層是陽極,稱爲陽極性鍍層,如鋼上的鍍鋅層;當鍍層相對于基體(tǐ)金屬的電(diàn)位爲正時,鍍層呈陰極,稱爲陰極性鍍層,如鋼上的鍍鎳層、鍍錫層等。

若按鍍層的組合形式分(fēn),鍍層可分(fēn)爲:單層鍍層,如Zn或Cu層;多層金屬鍍層,例如Cu-Sn/Cr鍍層、Cu/Ni/Cr鍍層等;複合鍍層,如Ni-AlO鍍層、Co-SiC鍍層等。

若按鍍層成分(fēn)分(fēn)類,可分(fēn)爲單一(yī)金屬鍍層、合金鍍層及複合鍍層。

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電(diàn)鍍溶液的基本組成

主鹽沉積金屬的鹽類主要有:單鹽,如硫酸銅、硫酸鎳等;絡鹽,如鋅酸鈉、氰鋅酸鈉等。

配合劑與沉積金屬離(lí)子形成配合物(wù),其主要作用是改變鍍液的電(diàn)化學性質和控制金屬離(lí)子沉積的電(diàn)極過程,配合劑是鍍液的重要成分(fēn),對鍍層質量有很大(dà)影響。常用配合劑有氰化物(wù)、氫氧化物(wù)、焦磷酸鹽、酒石酸鹽、氨三乙酸、檸檬酸等。

導電(diàn)鹽其作用是提高鍍液的導電(diàn)能力,降低槽端電(diàn)壓提高工(gōng)藝電(diàn)流密度。例如鍍鎳液中(zhōng)加入NaSO。導電(diàn)鹽不參加電(diàn)極反應,酸或堿類也可作爲導電(diàn)物(wù)質。

緩沖劑在弱酸或弱堿性鍍液中(zhōng),pH值是重要的工(gōng)藝參量。加入緩沖劑,使鍍液具有自行調節pH值能力,以便在施鍍過程中(zhōng)保持pH值穩定。緩沖劑要有足夠量才能有效控制酸堿平衡,一(yī)般加入30~40g/L,例如氯化鉀鍍鋅溶液中(zhōng)的硼酸。

陽極活化劑在電(diàn)鍍過程中(zhōng)金屬離(lí)子被不斷消耗,多數鍍液依靠可溶性陽極來補充,從而使金屬的陰極析出量與陽極溶解量相等,保持鍍液成分(fēn)平衡。加入活性劑能維持陽極活性狀态,不會發生(shēng)鈍化,保持正常溶解反應。例如鍍鎳液中(zhōng)必須加入Cl-,以防止鎳陽極鈍化。

特殊添加劑爲改善鍍液性能和提高鍍層質量,常需加入某種特殊添加劑。其加入量較少,一(yī)般隻有幾克每升,但效果顯著。這類添加劑種類繁多,按其作用可分(fēn)爲:

(1)光亮劑—可提高鍍層的光亮度。

(2)晶粒細化劑—能改變鍍層的結晶狀況,細化晶粒,使鍍層緻密。例如鋅酸鹽鍍鋅液中(zhōng),添加環氧氯丙烷與胺類的縮合物(wù)之類的添加劑,鍍層就可從海綿狀變爲緻密而光亮。

(3)整平劑—可改善鍍液微觀分(fēn)散能力,使基體(tǐ)顯微粗糙表面變平整。

(4)潤濕劑—可以降低金屬與溶液的界面張力,使鍍層與基體(tǐ)更好地附着,減少針孔。

(5)應力消除劑—可降低鍍層應力。

(6)鍍層硬化劑—可提高鍍層硬度。

(7)掩蔽劑—可消除微量雜(zá)質的影響。

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電(diàn)鍍過程的基本步驟

電(diàn)鍍過程的基本步驟包括:液相傳質、電(diàn)化學還原、電(diàn)結晶。

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影響電(diàn)鍍質量的因素

(1)鍍液:主鹽溶度、配離(lí)子、附加鹽;pH值;析氫;電(diàn)流參數:電(diàn)流密度、電(diàn)流波形;添加劑;溫度;攪拌;基體(tǐ)金屬:性質、表面加工(gōng)狀态;前處理。

(2)電(diàn)鍍方式:挂鍍。不能從水溶液中(zhōng)單獨電(diàn)鍍的W、Mo、Ti、V等金屬可與鐵族元素(Fe、Co、Ni)共沉積形成合金;從而獲得單一(yī)金屬得不到的外(wài)觀。

(3)沉積合金的條件:

①兩種金屬中(zhōng)至少有一(yī)種金屬能從其鹽的水溶液中(zhōng)沉積出來。

②共沉積的兩種金屬的沉積電(diàn)位必須十分(fēn)接近。

化學鍍

化學鍍是指在沒有外(wài)電(diàn)流通過的情況下(xià),利用化學方法使溶液中(zhōng)的金屬離(lí)子還原爲金屬,并沉積在基體(tǐ)表面,形成鍍層的一(yī)種表面加工(gōng)方法。

化學鍍時,還原金屬離(lí)子所需的電(diàn)子是通過化學反應直接在溶液中(zhōng)産生(shēng)。完成過程有以下(xià)三種方式。

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置換沉積

利用被鍍金屬M(如Fe)比沉積金屬M(如Cu)的電(diàn)位更負,将沉積金屬離(lí)子從溶液中(zhōng)置換在工(gōng)件表面上,工(gōng)程中(zhōng)稱這種方式爲浸鍍。當金屬M完全被金屬M覆蓋時,則沉積停止,所以鍍層很薄。鐵浸鍍銅,銅浸汞,鋁鍍鋅就是這種置換沉積。浸鍍難以獲得實用性鍍層,常作爲其他鍍種的輔助工(gōng)藝。

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接觸沉積

除了被鍍金屬M和沉積金屬M外(wài),還有第三種金屬M。在含有M離(lí)子的溶液中(zhōng),将M-M兩金屬連接,電(diàn)子從電(diàn)位高的M流向電(diàn)位低的M,使M還原沉積在M上。當接觸金屬M也完全被M覆蓋後,沉積停止。在沒有自催化性的功能材料上進行化學鍍鎳時,常用接觸沉積引發鎳沉積起鍍。

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還原沉積

由還原劑被氧化而釋放(fàng)的自由電(diàn)子,将金屬離(lí)子還原爲金屬原子的過程稱爲還原沉積。

其反應方程式如下(xià):

還原劑氧化

Rn+ → 2e- + R(n + 2)+

金屬離(lí)子還原

M2+ + 2e- → M

工(gōng)程上所講的化學鍍也主要是指這種還原沉積化學鍍。

化學鍍的條件是以下(xià)幾個方面:

(1)鍍液中(zhōng)還原劑的還原電(diàn)位要顯著低于沉積金屬的電(diàn)位,使金屬有可能在基材上被還原而沉積出來。

(2)配好的鍍液不産生(shēng)自發分(fēn)解,當與催化表面接觸時,才發生(shēng)金屬沉積過程。

(3)調節溶液的pH值、溫度時,可以控制金屬的還原速率,從而調節鍍覆速率。

(4)被還原析出的金屬也具有催化活性,這樣氧化還原沉積過程才能持續進行,鍍層才能連續增厚。

(5)反應生(shēng)成物(wù)不妨礙鍍覆過程的正常進行,即溶液有足夠的使用壽命。

化學鍍鍍覆的金屬及合金種類較多,如Ni-P、Ni-B、Cu、Ag、Pd、Sn、In、Pt、Cr及多種Co基合金等,但應用最廣的是化學鍍鎳和化學鍍銅。化學鍍層一(yī)般具有良好的耐蝕性、耐磨性、釺焊性及其他特殊的電(diàn)學或磁學等性能,所以該種表面處理工(gōng)藝能很好的完善材料的表面性能。

熱噴塗技術、熱噴焊技術

熱噴塗技術、熱噴焊技術都是利用熱能(如氧-乙炔火(huǒ)焰、電(diàn)弧、等離(lí)子火(huǒ)焰等)将具有特殊性能的塗層材料熔化後塗敷在工(gōng)件上形成塗層的技術。具有可以制備比較厚的塗層(0.1~10mm)的特點,主要應用在制造複合層零件修複。

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熱噴塗技術

(1)熱噴塗技術原理與特點

采用各種熱源使塗層材料加熱熔化或半熔化,然後用高速氣體(tǐ)使塗層材料分(fēn)散細化并高速撞擊到基體(tǐ)表面,從而形成塗層的工(gōng)藝過程,如圖14所示。

圖14 熱噴塗的基本過程示意圖

熱噴塗過程主要包括:噴塗材料的熔化;噴塗材料的霧化;噴塗材料的飛行;粒子的沖擊、凝固。

(2)塗層材料

熱噴塗對塗層材料有一(yī)定的要求,需滿足的條件:有較寬的液相區,在噴塗溫度下(xià)不易分(fēn)解或揮發;熱穩定性好;使用性能好;潤濕性好;固态流動性好(粉末);熱膨脹系數合适。塗層材料按照噴塗材料的形狀可分(fēn)爲線材和粉末。

(3)熱噴塗塗層的結合機理

①機械結合:熔融态的粒子撞擊到基材表面後鋪展成扁平狀的液态薄層,嵌合在起伏不平的表面,并形成機械結合。

②冶金結合:塗層與基體(tǐ)表面出現擴散和焊合,稱爲冶金結合。

③物(wù)理結合:當高速運動的熔融粒子撞擊基體(tǐ)表面後,若界面兩側的距離(lí)在原子晶格常數範圍内時,粒子之間依靠範德華力結合在一(yī)起。

(4)塗層的形成過程

①噴塗材料被加熱到熔融狀态;

②噴塗材料被霧化成微小(xiǎo)熔滴并高速撞擊基體(tǐ)表面,撞擊基體(tǐ)的顆粒動能越大(dà)和沖擊變形越大(dà),形成的塗層結合越好;

③熔融的高速粒子在沖擊基材表面後發生(shēng)變形,冷凝後形成塗層。

塗層的形成過程如圖15所示。

圖15 塗層形成過程示意圖

塗層結構是由大(dà)小(xiǎo)不一(yī)的扁平顆粒、未熔化的球形顆粒、夾雜(zá)和孔隙組成。孔隙存在的原因:未熔化顆粒的低沖擊動能;噴塗角度不同時造成的遮蔽效應;凝固收縮和應力釋放(fàng)效應。适當的孔隙可以儲存潤滑劑、提高塗層的隔熱性能、減小(xiǎo)内應力以及提高塗層的抗熱震性等,但是過多的孔隙将會破壞塗層的耐腐蝕性能、增加塗層表面的粗糙度,從而降低塗層的結合強度、硬度、耐磨性,所以在塗層的制備過程中(zhōng)應嚴格控制孔隙的數量。

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熱噴焊技術

(1)熱噴焊技術的原理及特點

熱噴焊技術是采用熱源将塗層材料在基體(tǐ)表面重新熔化或部分(fēn)熔化,并凝結于基體(tǐ)表面,形成與基體(tǐ)具有冶金結合的表面層的一(yī)種表面冶金強化方法,也稱爲熔結。相比于其他表面處理工(gōng)藝,熱噴焊所得的組織緻密,冶金缺陷很少,與基體(tǐ)結合強度高,但是所用材料的選擇範圍窄,基材的變形比熱噴塗大(dà)得多,熱噴焊層的成分(fēn)與原始成分(fēn)有一(yī)定差别等局限性。

(2)熱噴焊技術的分(fēn)類熱噴焊技術主要有火(huǒ)焰噴焊、等離(lí)子噴焊等。

①火(huǒ)焰噴焊:先在基體(tǐ)表面噴粉,再對塗層用火(huǒ)焰直接加熱,使塗層在基體(tǐ)表面重新熔化,基體(tǐ)的表面完全潤濕,界面有相互的元素擴散,形成牢固的冶金結合。

火(huǒ)焰噴焊特點:設備簡單;工(gōng)藝簡單;塗層與基體(tǐ)的結合強度高;塗層的耐沖蝕磨損性能好。

②等離(lí)子噴焊:以等離(lí)子弧作爲熱源加熱基體(tǐ),使其表面形成熔池,同時将噴焊粉末材料送入等離(lí)子弧中(zhōng),粉末在弧柱中(zhōng)得到預熱,呈熔化或半熔化狀态,被焰流噴射至熔池後,充分(fēn)熔化并排出氣體(tǐ)和熔渣,噴槍移開(kāi)後合金熔池凝固,最終形成噴焊層。

等離(lí)子噴焊的特點:生(shēng)産效率高;可噴焊難熔材料、稀釋率低、工(gōng)藝穩定性好、易實現自動化、噴焊層平整光滑、成分(fēn)及組織均勻,塗層厚度更大(dà)且試驗過程可精确控制。

(3)熱噴焊技術與熱噴塗技術的區别

①工(gōng)件表面溫度:噴塗時工(gōng)件表面溫度<250℃;噴焊要>900℃。

②結合狀态:噴塗層以機械結合爲主;噴焊層是冶金結合。

③粉末材料:噴焊用自熔性合金粉末,噴塗粉末不受限制。

④塗層結構:噴塗層有孔隙,噴焊層均勻緻密無孔隙。

⑤承載能力:噴焊層可承受沖擊載荷和較高的接觸應力。

⑥稀釋率:噴焊層的稀釋率約5%~10%,噴塗層的稀釋率幾乎爲零。

化學轉化膜技術

化學轉化膜技術就是通過化學或電(diàn)化學手段,使金屬表面形成穩定的化合物(wù)膜層的工(gōng)藝過程。

化學轉化膜技術,主要用于工(gōng)件的防腐和表面裝飾,也可用于提高工(gōng)件的耐磨性能等方面。它是利用某種金屬與某種特定的腐蝕液相接觸,在一(yī)定條件下(xià)兩者發生(shēng)化學反應,由于濃差極化作用和陰、陽極極化作用等,在金屬表面上形成一(yī)層附着力良好的、難溶的腐蝕生(shēng)成物(wù)膜層。這些膜層,能保護基體(tǐ)金屬不受水和其他腐蝕介質的影響,也能提高對有機塗膜的附着性和耐老化性。在生(shēng)産中(zhōng),采用的轉化膜技術主要有和磷化處理和氧化處理。

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磷化處理

磷化是将鋼鐵材料放(fàng)入磷酸鹽的溶液中(zhōng),獲得一(yī)層不溶于水的磷酸鹽膜的工(gōng)藝過程。

鋼鐵材料磷化處理工(gōng)藝過程如下(xià):化學除油→熱水洗→冷水洗→磷化處理→冷水洗→磷化後處理→冷水洗→去(qù)離(lí)子水洗→幹燥。

磷化膜由磷酸鐵、磷化錳、磷酸鋅等組成,呈灰白(bái)或灰黑色的結晶。膜與基體(tǐ)金屬結合非常牢固,并具有較高的電(diàn)阻率。與氧化膜相比,磷化膜有較高的抗腐蝕性,特别是在大(dà)氣、油質和苯介質中(zhōng)均有很好耐腐蝕性,但在酸、堿、氨水、海水及水蒸氣中(zhōng)的耐腐蝕性較差。

磷化處理的主要方法爲浸漬法、噴淋法和浸噴組合法。根據溶液溫度不同,磷化又(yòu)分(fēn)爲室溫磷化、中(zhōng)溫磷化和高溫磷化。

浸漬法适用于高溫、中(zhōng)溫和低溫磷化工(gōng)藝,可處理任何形狀的工(gōng)件,并可獲得不同厚度的磷化膜,且設備簡單,質量穩定。厚磷化膜主要用于工(gōng)件的防腐處理和增強表面的減摩性。噴淋法适用于中(zhōng)溫和低溫磷化工(gōng)藝,可以處理面積大(dà)的工(gōng)件,如汽車(chē)殼體(tǐ)、電(diàn)冰箱、洗衣機等大(dà)型工(gōng)件作爲油漆底層和冷變形加工(gōng)等。這種方法處理時間短,成膜速度快,但隻能獲得較薄和中(zhōng)等厚度的磷化膜。

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氧化處理

(1)鋼鐵的氧化處理

鋼鐵的氧化處理也稱發藍(lán),是将鋼鐵工(gōng)件放(fàng)入某些氧化性溶液中(zhōng),使其表面形成厚度約爲0.5~1.5μm緻密而牢固的Fe3O4薄膜的工(gōng)藝方法。發藍(lán)通常不影響零件的精密度,常用于工(gōng)具、儀器的裝飾防護。它能提高工(gōng)件表面的抗腐蝕能力,有利于消除工(gōng)件的殘餘應力,減少變形,還能使表面光澤美觀。氧化處理以堿性法應用最多。

鋼鐵的氧化處理所用溶液成分(fēn)和工(gōng)藝條件,可根據工(gōng)件材料和性能要求确定。常用溶液由爲500g/L的氫氧化鈉、200g/L的亞硝酸鈉和餘量水組成,在溶液溫度爲140℃左右時處理6~9min。

(2)鋁及鋁合金的氧化處理

①陽極氧化法

陽極氧化法是将工(gōng)件置于電(diàn)解液中(zhōng),然後通電(diàn),得到硬度高、吸附力強的氧化膜的方法。常用的電(diàn)解液有濃度爲15%~20%的硫酸、3%~10%的鉻酸、2%~10%的草酸。陽極氧化膜可用熱水煮,使氧化膜變成含水氧化鋁,因體(tǐ)積膨脹而封閉。也可用重鉻酸鉀溶液處理而封閉,以阻止腐蝕性溶液通過氧化膜結晶間隙腐蝕基體(tǐ)。

②化學氧化法

化學氧化法是将工(gōng)件放(fàng)入弱堿或弱酸的溶液中(zhōng),獲得與基體(tǐ)鋁結合牢固的氧化膜的方法。主要用于提高工(gōng)件的抗腐蝕性和耐磨性,也用于鋁及鋁合金的表面裝飾,如建築用的防鏽鋁,标牌的裝飾膜等。

氣相沉積技術

氣相沉積技術是指将含有沉積元素的氣相物(wù)質,通過物(wù)理或化學的方法沉積在材料表面形成薄膜的一(yī)種新型鍍膜技術。根據沉積過程的原理不同,氣相沉積技術可分(fēn)爲物(wù)理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)兩大(dà)類。

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物(wù)理氣相沉積

物(wù)理氣相沉積(PVD)是指在真空條件下(xià),用物(wù)理的方法,使材料汽化成原子、分(fēn)子或電(diàn)離(lí)成離(lí)子,并通過氣相過程,在材料表面沉積一(yī)層薄膜的技術。物(wù)理沉積技術主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離(lí)子鍍3種基本方法。

真空蒸鍍是蒸發成膜材料使其汽化或升華沉積到工(gōng)件表面形成薄膜的方法。根據蒸鍍材料熔點的不同,其加熱方式有電(diàn)阻加熱、電(diàn)子束加熱、激光加熱等多種。真空蒸鍍的特點是設備、工(gōng)藝及操作簡單,但因汽化粒子動能低,鍍層與基體(tǐ)結合力較弱,鍍層較疏松,因而耐沖擊、耐磨損性能不高。

濺射鍍是在真空下(xià)通過輝光放(fàng)電(diàn)來電(diàn)離(lí)氩氣,産生(shēng)的氩離(lí)子在電(diàn)場作用下(xià)加速轟擊陰極,被濺射下(xià)來的粒子沉積到工(gōng)件表面成膜的方法;其優點是氣化粒子動能大(dà)、适用材料廣泛(包括基體(tǐ)材料和鍍膜材料)、均鍍能力好,但沉積速度慢(màn)、設備昂貴。

離(lí)子鍍是在真空下(xià)利用氣體(tǐ)放(fàng)電(diàn)技術,将蒸發的原子部分(fēn)電(diàn)離(lí)成離(lí)子,與同時産生(shēng)的大(dà)量高能中(zhōng)性粒子一(yī)起沉積到工(gōng)件表面成膜的方法。其特點是鍍層質量高、附着力強、均鍍能力好、沉積速度快,但存在設備複雜(zá)、昂貴等缺點。

物(wù)理氣相沉積具有适用的基體(tǐ)材料和膜層材料廣泛;工(gōng)藝簡單、省材料、無污染;獲得的膜層膜基附着力強、膜層厚度均勻、緻密、針孔少等優點。已廣泛應用于機械、航空航天、電(diàn)子、光學和輕工(gōng)業等領域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導電(diàn)、絕緣、光學、磁性、壓電(diàn)、滑潤超導等薄膜。

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化學氣相沉積

化學氣相沉積(CVD)是指在一(yī)定溫度下(xià),混合氣體(tǐ)與基體(tǐ)表面相互作用而在基體(tǐ)表面形成金屬或化合物(wù)薄膜的方法。

化學氣相沉積的特點是:沉積物(wù)種類多,可分(fēn)爲沉積金屬、半導體(tǐ)元素、碳化物(wù)、氮化物(wù)、硼化物(wù)等;并能在較大(dà)範圍内控制膜的組成及晶型;能均勻塗敷幾何形狀複雜(zá)的零件;沉積速度快,膜層緻密,與基體(tǐ)結合牢固;易于實現大(dà)批量生(shēng)産。

由于化學氣相沉積膜層具有良好的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及電(diàn)學、光學等特殊性能,已被廣泛應用于機械制造、航空航天、交通運輸、煤化工(gōng)等工(gōng)業領域。

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